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반도체 제조 공정에서의 오염 제어에 관한 각종 솔루션 및 서비스를 제공합니다.
반도체 제조 공정에서의 오염 제어에 관한 각종 솔루션 및 서비스를 제공합니다.
 
새 정보
May 12, 2022 : Became a corporate member of the Hydrogenomics Alliance, Japan.
https://www.hydrogenomics-alliance.jp/overview04.html

솔루션 일람표

제품명 개요 막질 막두께 내열 온도 내식성 효과 예
실리카 코트
Quartzace
금속 표면이 합성 석영과 동등한 수준의 고순도 SiO2입니다. 메탈 프리로 메탈 무오염을 실현합니다.  SiO2 0.7μm 350℃ HCl
HBr

※1
금속의 고온 산화 방지 메탈 오염 저감
SPP 처리 SUS316L 표면에 치밀한 산화크롬 피막을 형성하고 HF, HCl에 대해서도 우수한 내식성을 얻을 수 있습니다. Cr2O3 40Å 300℃ HCl
HBr
HF
F2
메탈 오염 저감
※1 HF, F2의 F계 가스는 불가

솔루션

실리카 코트 Quartzace

금속 표면이 합성 석영과 동등한 수준의 고순도 SiO2입니다. 메탈 프리로 메탈 무오염을 실현합니다. 

SPP 처리

SUS316L 표면에 치밀한 산화크롬 피막을 형성하고 HF, HCl에 대해서도 우수한 내식성을 얻을 수 있습니다.

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